光学成像中的扩散近似理论及相关应用
在光学成像领域,对光在组织中的传播进行准确建模是实现高质量成像的关键。本文将深入探讨光学成像中的扩散近似理论,包括其基本概念、边界条件、源模型、有效性分析、数值求解方法以及相关的混合方法和重要映射等内容。
1. 基本边界条件与可测量量
在光学成像中,存在一种边界条件,也被称为自由表面边界条件或真空边界条件。该条件意味着一旦光子逃离区域Ω,就不会再重新进入。此边界条件(> 17.6)可进行修改,以包含位于源位置ε j ⊂∂Ω处的边界源ϕ₀(r, ŝ),其形式如下:
[
\phi(r, \hat{s}) =
\begin{cases}
\phi_0(r, \hat{s}), & r \in \cup_j \epsilon_j, \hat{s} \cdot \hat{n} < 0 \
0, & r \in \partial\Omega / \cup_j \epsilon_j, \hat{s} \cdot \hat{n} < 0
\end{cases}
]
在光学成像里,可测量的量是区域边界上的出射度Jₙ(r),其定义为:
[
J_n(r) = \int_{S^{n - 1}} (\hat{s} \cdot \hat{n}) \phi(r, \hat{s}) d\hat{s}, r \in \partial\Omega
]
2. 扩散近似理论
在光学成像中,通常使用辐射传输方程(RTE)的扩散近似(DA)来模拟光在组织中的传播。推导DA的最典型方法是利用球谐函数将辐射率、源项和相函数展开
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