Virtuoso 中的tech file 详细说明

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目录

1. 认识 Techfile 及其核心作用

1.1 techfile通常包含以下关键信息:

2. Techfile 的语法与主要内容

2.1 工艺文件包含以下语句和章节

2.2 . 文件头与单位定义

2.2.1 include(文件嵌入)

2.2.2 comment(注释)

2.3 工艺文件控制参数

2.3.1 controls(控制参数总段)

2.3.2. processNode(工艺节点)

2.3.4 techVersion(工艺文件版本)

2.3.5 techParams(工艺参数)

2.3.6 distanceMeasure(距离测量方式)

2.3.7 viewTypeUnits(视图类型单位)

2.3.8 mfgGridResolution(制造栅格分辨率)

2.3.9 refTechLibs(参考工艺库)

2.3.10 processFamily(工艺系列)

2.4 . 图层 (Layer) 定义

2.3.1 layerDefinitions(图层定义总段)

2.3.2 techLayers(工艺图层定义)

参数说明

示例

2.3.4 techPurposes(工艺图层用途定义)

1. 参数说明

2. 预定义用途

3. 自定义对象属性

4. 版图对象

5. 模拟对象

6. 动态高亮与拖拽轮廓

示例 1

示例 2

示例 3

示例 4

示例 5

2.4.5 techLayerPurposePriorities(图层 - 用途组合优先级)

参数说明

示例

2.4.6 techDisplays(图层显示属性)

参数说明

示例

2.4.7 techLayerProperties

        功能描述

配置示例

2.4.8 techDerivedLayers

1. 关联用途的派生图层

功能描述

参数说明

配置示例

2. 尺寸缩放派生图层

功能描述

参数说明

配置示例

3. 面积限制派生图层

功能描述

参数说明

配置示例

4. 颜色筛选派生图层

功能描述

参数说明

应用场景示例

场景 1

场景 2

场景 3

场景 4

场景 5

5. 双图层运算派生图层

功能描述

参数说明

操作符定义

2.4.9 LPP Valid Functionality

LPP 有效性相关属性说明

现有函数说明

2.4.10 简单示例

2.5 层属性定义

2.5.1 layerRules

描述

重要提示

示例:

1. 图层优先级规则(PRIORITY)

2. 掩膜映射规则(MASK)

3. 图层用途约束规则(PURPOSE_RULE)

4. 图层工艺参数关联规则(PROPERTY)

5. 图层兼容性规则(COMPATIBILITY)

描述

参数

示例

示例 1:合并多重曝光的分割图层

示例 2:兼容不同版本的图层命名

2.5.3 incompatibleLayers

描述

参数

示例

示例 1:规避有源区与金属层的短路风险

示例 2:禁止不同掺杂层的重叠

示例 3:先进工艺的光刻阻挡层约束

2.5.4 functions

描述

参数

重要提示

图层功能说明

参数

示例 1

示例 2

示例 3

示例 4:

示例 5:DRC 规则中的几何函数应用(金属线宽 + 间距约束)

示例 6:LVS 器件识别中的图层操作函数(MOS 管识别)

示例 7:PEX 寄生参数计算中的参数函数应用

2.5.5 backsideLayers

描述

基础格式

与正面图层的关联规则

参数

示例1:

示例2:

2.5.6 mfgResolutions

描述

示例

示例 1:成熟工艺(180nm)的 mfgResolutions 配置

示例 2:先进工艺(7nm)的 mfgResolutions 配置

2.5.7 routingDirections

描述

参数

关键注意事项

示例

示例 1:经典多层金属正交布线配置(成熟工艺)

示例 2:先进工艺的优先方向配置

示例 3:电源 / 地层的特殊方向配置

2.5.8 snapPatternDefs

描述

全局吸附图案定义的激活方式

轨道组(Track Groups)

参数

示例

示例 1:定义 45 度斜向吸附网格(模拟 / 射频版图常用)

示例 2:定义六边形吸附网格(功率器件 / 阵列布局常用)

2.5.9 relatedSnapPatterns

描述

参数

示例

2.5.10 widthSpacingPatterns

描述

重复模式与图案翻转

零偏移图案

参数

示例 1

示例 2

示例 3

示例 4

2.5.11widthSpacingPatternGroups

描述

参数

示例

2.5.12 widthSpacingSnapPatternDefs

描述

参数

示例

2.5.13 电流密度表

关键规则

2.5.14 peakACCurrentDensity

描述

参数

2.5.15 avgACCurrentDensity

2.5.16 rmsACCurrentDensity

2.5.17 avgDCCurrentDensity

2.5.18 stampLabelLayers

参数

示例

2.5.19 labelLayers

参数

示例

2.5.20  cutClasses

通过 SKILL 语言访问通孔类别信息

2.6 File Site Definitions

2.6.1 单元布局定义(siteDefs)

说明

2.6.2 标量单元布局定义(scalarSiteDefs)

说明

参数

示例

2.6.3 阵列单元布局定义(arraySiteDefs)

说明

参数

示例

2.7 . 通孔 (Via/ContactCode) 定义

2.7.1 通孔总定义(viaDefs)

说明

2.7.2 标准通孔定义(standardViaDefs)

说明

重要提示

参数说明

示例

2.7.3 自定义通孔定义(customViaDefs)

说明

注意事项

参数说明

示例

重要提示

2.7.4 标准通孔变体(standardViaVariants)

说明

重要提示

参数说明

示例

2.7.5 自定义通孔变体(customViaVariants)

说明

重要提示

参数说明

示例 1

示例 2

2.7.6 Cadence 生成式通孔定义(cdsGenViaDefs)

说明

参数分类

附加层说明

通孔阵列分组说明

参数说明

示例

2.7.7 通孔规格(Via Specifications)

注意事项

2.7.8 通孔规格配置(viaSpecs)

说明

示例

2.8  Technology File Devices定义

2.8.1 devices()

描述

2.8.2.tcCreateDeviceClass

描述

重要说明

参数说明

示例 1:创建 “syMGEnhancement” 器件类

示例 2

完整版:

2.8.3 tcDeclareDevice

描述

参数说明

示例

2.8.4 tcDeleteDevice

描述

参数说明

2.8.5 tfcDefineDeviceProp

描述

参数说明

示例

2.8.5 tcCreateCDSDeviceClass

描述

示例

2.8.6 cdsViaDevice

描述

重要说明

参数说明

示例

2.8.7 ruleContactDevice

描述

关键说明

参数说明

示例

2.8.8 multipartPathTemplates

描述

关键说明

核心参数

示例:保护环 MPP 模板

2.8.9 waveguideTemplates

​编辑

描述

重要说明

参数说明

衍生图形的生成

示例:简单波导模板

2.9.10 器件提取定义

1. extractMOS

参数

2. extractRES

3. extractCAP

4. extractDIODE

2.10 Technology File LSW Layers Specification

2.10.1  leRules

函数格式

2.10.2  leLswLayers

2.11 Display Resource File

2.11.1 drDefineDisplay

描述

参数

示例

2.11.2 drDefineColor

描述

注意事项

参数

示例

2.11.3 drDefineStipple

描述

参数

示例填充图案

示例

2.11.4 drDefineLineStyle

描述

参数

示例线型

示例

2.11.5 drDefinePacket

描述

参数

显示数据包命名规范

命名规范注意事项

显示数据包命名示例

填充样式说明

绘图专用显示数据包定制

示例

2.11.6 drDefinePacketAlias

描述

参数

示例

2.5  单元基底 (Tile/Unit Tile) 定义

3. Techfile 在 Virtuoso 中的应用流程

4、使用 Techfile 的注意事项


工艺文件(Techfile)是 Cadence Virtuoso 集成电路设计平台中核心的底层数据文件,它是连接芯片设计与半导体制造工艺的桥梁,定义了从晶圆制造到版图验证全流程所需的工艺规则、图层属性、物理参数等关键信息。Virtuoso 作为主流的 IC 设计与物理验证工具,对 Techfile 的完整性和准确性有极高的依赖,其质量直接决定了版图设计的合规性和可制造性。

📄 techfile(全称 Technology File)在Virtuoso 中是整个工艺设计环境(PDK)中最核心的配置文件之一,它定义了你的设计库在物理层(layout)和部分电路层(schematic)的技术规则、图层、规则参数等。这个文件通常由 PDK供应商提供。

对techfile文件相关的操作可以在Virtuoso CIW 窗口,Tools—Technology File Manager...对话框中进行操作。

当你想修改techfile中的via或线宽或其他走线规则时,你可以直接编辑techfile并实时加载修改后的techfile。当然你也可以恢复修改之前的techfile和下载techfile里的内容。

下面的内容将对techfile 详细介绍:

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