文章目录 16.1 工艺流程总览 完整工艺流程 16.2 开料工艺 开料参数 质量控制 16.3 钻孔工艺 钻孔类型 激光钻孔参数 16.4 孔金属化 流程 质量控制 16.5 图形形成 MSAP工艺 关键参数 16.6 层压工艺 流程 材料 16.7 表面处理 类型 沉金工艺 16.8 成型工艺 切割类型 成型尺寸 16.9 电测工艺 测试项目 学习要点 核心概念 16.1 工艺流程总览 完整工艺流程 IC载板制造流程: ┌─────────────────────────────────────────────────────────┐ │ 1. 开料 │ │ 基板切割 → 清洁 → 烘烤 │ │ ↓ │ │ 2. 钻孔 │ │ 机械钻孔 → 激光钻孔 → 孔检查 │ │ ↓ │ │ 3. 孔金属化 │ │ 除胶渣 → 沉铜 → 电镀铜 → 退火 │ │ ↓ │ │ 4. 图形形成 │ │ 干膜贴附 → 曝光 → 显影 → 蚀刻 → 去膜 │ │ ↓ │ │ 5. 层压