1、电平转换电路介绍
不同电压域芯片(如 5V 单片机、3.3V STM32、1.8V 传感器)IO 高电平标准不一样,无法直接通信;电平转换电路用来转换高低逻辑电平,同时隔离高压、保护低压芯片引脚,分为单向、双向两大类。本文介绍的两颗NMOS搭建单向电平转换电路适用于信号单向传输的场景,主要应用场景为5V->3.3V的单向电平转换。

2、元器件选型参数介绍
1)NMOS1和NMOS2均为NMOS,NMOS1参数无特殊要求;NMOS2需要满足VGSth<(VDI-VDO);
2)限流电阻为保证VCC的瞬态响应能力不足导致信号波动,推荐选取51Ω,阻值过小导致信号波动,阻值过大导致信号边沿过缓。
3、电路工作过程介绍
参数假设,设NMOS1的导通电压VGSth1为1V,NMOS2的导通电压VGSth2为0.3V。
阶段 1:0V≤DI<2.3V
初始稳态 DI=0V
1)判断 NMOS2:VDI=0,VGS2=0−VDO<0<0.3V,NMOS2 完全关断,3.3V 上拉回路无电流。
2)判断 NMOS1:此时 DI 与 DO 通过导通沟道短接,VDO=DI=0V VGS1=3.3−0=3.3V>1V,NMOS1 饱和导通,漏源近似等电位。
3)输出关系:DO=DI
DI 缓慢上升(0<DI<2.3V)
1)NMOS1:VDO=DI<2.3V,VGS1=3.3−DI>1V,维持饱和导通;
2)NMOS2:VGS2=DI−DO=0<0.3V,始终关断;
3)输出特性:DO 严格跟随 DI 同步抬升。 举例:DI=1V → DO=1V;DI=2.2V → DO=2.2V。
区间临界点 DI=2.3V
VDO=2.3V,VGS1=3.3−2.3=1V,刚好等于 NMOS1 开启阈值,NMOS1 即将退出导通。
阶段 2:2.3V≤DI<3.3V(过渡区间)
1)NMOS1 状态 若 DO 继续等于 DI,则VDO≥2.3V,VGS1≤1V,NMOS1 沟道收缩,进入高阻区,DI 与 DO 之间隔离阻抗急剧变大,不再等电位。
2)NMOS2 状态 VDI≥2.3V,此时 DO 初始电位≈2.3V, 当VGS2=VDI−VDO>0.3V,满足 0.3V 低阈值,NMOS2 导通;
3)电压变化趋势 3.3V 电源通过 NMOS2、R1 向 DO 节点灌入电流,强行抬高 DO 电位; NMOS1 隔离阻抗不断增大,DI 拉高 DO 的能力持续减弱; DO 上升速度不再和 DI 同步,被 3.3V 电源钳位,DO 增速远慢于 DI。
示例:DI=3V,DO 不会等于 3V,只会被上拉至 2.5~3.2V 之间,且永远不会超过 3.3V。
阶段 3:3.3V≤DI≤5V(高压隔离电平转换区)
1)NMOS1 彻底关断,高低压隔离 NMOS2 持续导通,DO 被上拉至接近 3.3V; VGS1=3.3−VDO≈0V<1V,NMOS1 导电沟道完全消失; DI 最高 5V 与 DO 最高 3.3V 彻底断开,5V 高压不会倒灌进 3.3V 芯片 IO,实现硬件保护。
2)NMOS2 饱和导通,DO 稳定 3.3V VDI从 3.3V 升到 5V,VGS2=VDI−VDO差值持续变大,NMOS2 导通电阻极小; 电流通路:3.3V → NMOS2 → 51Ω R1 → DO; 稳态输出:DO≈3.3V,DI 继续升高,DO 不再变化。
阶段4:终点稳态 DI=5V
1)NMOS1:完全关断,5V 与 3.3V 域隔离;
2)NMOS2:深度饱和导通;
3)输出 DO≈3.3V,完成 5V 高电平转 3.3V 高电平。

4、元器件选型及注意事项介绍
1)NMOS1和NMOS2均为NMOS,NMOS1参数无特殊要求;NMOS2需要满足VGSth<(VDI-VDO);
2)限流电阻为保证VCC的瞬态响应能力不足导致信号波动,推荐选取51Ω,阻值过小导致信号波动,阻值过大导致信号边沿过缓。
3)元器件选型注意测试IDS,IGS,正常需要在μA以下,若漏电流较大,会导致低电平下拉不到位,漏电流影响前级信号等现象。
4)该电路适用于5MHz以下,速率再高寄生参数影响会更大,导致无法识别。

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